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化學鍍鎳 浸金(ENIG)系列光譜分析儀

簡要描述₪▩◕·↟:化學鍍鎳 浸金(ENIG)系列光譜分析儀是一款專門為細小部件測量鍍層量身打造的精密儀器☁◕↟▩·,擁有先進的高畫質CCD可以變焦配置☁◕↟▩·,可以測試凹槽產品;擁有精密的瑞士移動滑軌☁◕↟▩·,可以精確定位任何小樣品的測試點☁◕↟▩·,方便快捷;擁有演算法EFP法☁◕↟▩·,不但使用了光譜發射法計算☁◕↟▩·,同時也使用了光譜吸收法計算☁◕↟▩·,即使是以往裝置的難題☁◕↟▩·,同一金屬鍍了兩層☁◕↟▩·,我們也能精確測量✘│。

  • 產品型號₪▩◕·↟:XAU-4CS
  • 廠商性質₪▩◕·↟:經銷商
  • 更新時間₪▩◕·↟:2022-01-22
  • 訪  問  量₪▩◕·↟:597
詳細介紹



最近釋出的IPC 4552-Rev✘│。 給使用

化學鍍鎳/ 浸金(ENIG)

的PCB製造商帶來了挑戰✘│。 特別是☁◕↟▩·,新規格為適用於最佳產品效能的黃金量設定了上限✘│。 必須嚴密監控這種金厚度☁◕↟▩·,並且公認的測量方法是XRF厚度測試✘│。 要準確測量這個新定義範圍內的金厚度☁◕↟▩·,需要特定的XRF硬體☁◕↟▩·,軟體和校準標準✘│。

大多數PCB製造商已經將XRF裝置作為其質量控制流程的一部分☁◕↟▩·,但他們發現許多較老的儀器難以滿足新的IPC規範要求☁◕↟▩·,並可能需要升級到最新的XRF技術✘│。 一六儀器是國產儀器中可以保證所有XRF儀器都符合新的IPC 4552-A要求的公司✘│。

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化學鍍鎳 浸金(ENIG)系列光譜分析儀是一款專門為細小部件測量鍍層及RoHS元素分析量身打造的精密儀器☁◕↟▩·,擁有先進的高畫質CCD可以變焦配置☁◕↟▩·,可以測試凹槽產品;擁有精密的瑞士移動滑軌☁◕↟▩·,可以精確定位任何小樣品的測試點☁◕↟▩·,方便快捷;擁有演算法EFP法☁◕↟▩·,不但使用了光譜發射法計算☁◕↟▩·,同時也使用了光譜吸收法計算☁◕↟▩·,即使是以往裝置的難題☁◕↟▩·,同一金屬鍍了兩層☁◕↟▩·,我們也能精確測量✘│。

化學鍍鎳 浸金(ENIG)系列光譜分析儀效能優勢₪▩◕·↟:

1.微小樣品檢測₪▩◕·↟:小測量面積0.03mm²(加長測量時間可小至0.01mm²)

2.變焦裝置演算法₪▩◕·↟:可改變測量距離測量凹凸異形樣品☁◕↟▩·,變焦距離可達0-30mm

3.先進的EFP演算法₪▩◕·↟:Li(3)-U(92)元素的塗鍍層☁◕↟▩·,多層多元 素☁◕↟▩·,甚至有同種元素在不同層也可精準測量✘│。  

4.先進的解譜技術₪▩◕·↟:減少能量相近元素的干擾☁◕↟▩·,降低檢出限✘│。  

5.高效能探測器₪▩◕·↟:SDD矽漂移視窗面積25mm²探測器✘│。  

6.X射線裝置₪▩◕·↟:微焦加強型射線管搭配聚焦裝置✘│。

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一六儀器研製的測厚儀*的光路交換裝置☁◕↟▩·,讓X射線和可見光攝像同一垂直線☁◕↟▩·,達到視覺與測試定位一體☁◕↟▩·,且X光擴散度小;與EFP軟體配合達到對焦◕↟✘•☁、變焦雙焦功能☁◕↟▩·,實現高低◕↟✘•☁、凹凸不平各種形狀樣品的測試;高整合的光路交換裝置與接收器的角度可縮小一倍☁◕↟▩·,可以減少弧度傾斜放樣帶來的誤差☁◕↟▩·,同時特徵X射線可以穿透測試更厚的表層✘│。


先進的EFP演算法

專業的研發團隊在Alpha和Fp法的基礎上☁◕↟▩·,計算樣品中每個元素的一次熒光◕↟✘•☁、二次熒光◕↟✘•☁、靶材熒光◕↟✘•☁、吸收增強效應◕↟✘•☁、散射背景等多元最佳化迭代開發出EFP核心演算法☁◕↟▩·,結合先進的光路轉換技術◕↟✘•☁、變焦結構設計及穩定的多道脈衝分析採集系統☁◕↟▩·,只需要少量的標樣來校正儀器因子☁◕↟▩·,可測試重複鍍層◕↟✘•☁、非金屬◕↟✘•☁、輕金屬◕↟✘•☁、多層多元素以及有機物層的厚度及成分含量✘│。

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RoHS檢測及標定

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