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XTD-200釹鐵硼磁鐵電鍍層X射線分析儀

簡要描述◕│₪↟:XTD-200釹鐵硼磁鐵電鍍層X射線分析儀
1.先進的EFP演算法◕│₪↟:多層多元素☁₪、各種元素及有機物▩│✘↟,甚至有同種元素在不同層也可測量☁·╃│•。
2.上照式設計◕│₪↟:實現可對超大工件進行快☁₪、準☁₪、穩高效率測量☁·╃│•。
3.自動對焦◕│₪↟:高低大小樣品可快速清晰對焦☁·╃│•。
4.變焦裝置演算法◕│₪↟:可對大90mm深度的凹槽高低落差件直接檢測☁·╃│•。
5.小面積測量◕│₪↟:小測量面積0.002mm2

  • 產品型號◕│₪↟:
  • 廠商性質◕│₪↟:經銷商
  • 更新時間◕│₪↟:2022-03-17
  • 訪  問  量◕│₪↟:183
詳細介紹

XTD-200釹鐵硼磁鐵電鍍層X射線分析儀

產品詳情

    XTD-200測厚儀▩│✘↟,專業表面處理檢測解決方案◕│₪↟:釹鐵硼磁鐵Ni/Cu/Ni/FeAlB電鍍層分析

兩層重複鎳鍍層厚度分析儀

    XTD-200測厚儀▩│✘↟,於檢測各種異形件▩│✘↟,特別是五金類模具☁₪、衛浴產品☁₪、線路板以及高精密電子元器件表面處理的成分和厚度分析☁·╃│•。

    儀器優點◕│₪↟:

    1. 分析精度*

    2. 分析範圍廣泛

    3. 微區定位

    4. 操作簡單快捷

    5. 結果可靠

    6. 行業標準

 

    XYZ高精密移動裝置◕│₪↟:快速定位▩│✘↟,手/自動(可選)▩│✘↟,自動版可實現程式設計定位多點自動測試☁·╃│•。

 

    軟☁₪、硬體雙向操作◕│₪↟:人性化設計▩│✘↟,實現軟體▩│✘↟,硬體雙向快捷操作☁·╃│•。

    變焦 對焦◕│₪↟:配備高敏感鏡頭▩│✘↟,實現無感對焦▩│✘↟,可測各種異形件☁₪、超大工件☁·╃│•。

 

 

    效能優勢◕│₪↟:

    1.先進的EFP演算法◕│₪↟:多層多元素☁₪、各種元素及有機物▩│✘↟,甚至有同種元素在不同層也可測量☁·╃│•。

    2.上照式設計◕│₪↟:實現可對超大工件進行快☁₪、準☁₪、穩高效率測量☁·╃│•。

    3.自動對焦◕│₪↟:高低大小樣品可快速清晰對焦☁·╃│•。

    4.變焦裝置演算法◕│₪↟:可對大90mm深度的凹槽高低落差件直接檢測☁·╃│•。

    5.小面積測量◕│₪↟:小測量面積0.002mm2

    6.大行程移動平臺◕│₪↟:手動XY滑臺100*150mm▩│✘↟,自動XY平臺200*200mm.

 

  XTD-200釹鐵硼磁鐵電鍍層X射線分析儀結構設計◕│₪↟:

    一六儀器研製的測厚儀*的光路交換裝置▩│✘↟,讓X射線和可見光攝像同一垂直線▩│✘↟,達到視覺與測試定位一體▩│✘↟,且X光擴散度極小;與EFP軟體配合達到對焦☁₪、變焦雙焦功能▩│✘↟,實現高低☁₪、凹凸不平各種形狀樣品的測試;高整合的光路交換裝置與接收器的角度可縮小一倍▩│✘↟,可以減少弧度傾斜放樣帶來的誤差▩│✘↟,同時特徵X射線可以穿透測試更厚的表層☁·╃│•。

 

    EFP演算法◕│₪↟:

 

    採用Fp演算法的後一代全新核心演算法--理論Alpha係數法▩│✘↟,基於熒光X射線激發的基本原理▩│✘↟,從理論上計算出樣品中每個元素的一次和二次特徵X射線的熒光強度▩│✘↟,在基於此計算Lachance綜合校正係數▩│✘↟,然後使用這些理論a係數去校正元素間的吸收增強效應☁·╃│•。

    只需少數標樣來校正儀器因子▩│✘↟,可測試重複鍍層☁₪、非金屬☁₪、輕金屬以及有機物層☁·╃│•。

 


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